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Lugar de ejecución
Cerdanyola del vallès, Barcelona, Cataluña, España
Anuncio de Licitación
17/12/2019
Perfil del Contratante
Anuncio de Pliegos
17/12/2019
Perfil del Contratante
Fin Plazo Presentación
07/01/2020
Finalizado
Anuncio de Adjudicación
17/02/2020
Perfil del Contratante
Anuncio de Formalización
18/02/2020
Perfil del Contratante
Anuncio de Formalización
21/02/2020
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Suministro e instalación de un sistema de plasma para el ataque seco de capas microelectrónicas mediante la técnica de grabado iónico reactivo (RIE) con destino al Instituto de Microelectronica de Barcelona
Perfil del contratante
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